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氧化镓(β-Ga₂O₃)深紫外光电探测器芯片YS-DUV-3535-GO
型号: YS-DUV-3535-GO
品牌: 佑水数据(无锡)有限公司
封装: 3535(3.5 mm × 3.5 mm SMD)
描述: YS-DUV-3535-GO 是一款基于第四代半导体材料 β-氧化镓(β-Ga₂O₃)的深紫外(DUV)光电探测器芯片,采用工业级 3535(3.5 mm × 3.5 mm)SMD 贴片封装。产品专为 200–280 nm「日盲」紫外波段的高灵敏度、高选择性探测而设计,尤其适用于以 254 nm 紫外吸收光谱法检测 COD、TOC、余氯的水质传感器前端。
江苏英尼特智能科技有限公司

β-Ga₂O₃(氧化镓)深紫外光电探测器芯片YS-DUV-3535-GO


一、产品概述

YS-DUV-3535-GO 是一款基于第四代半导体材料 β-氧化镓(β-Ga₂O₃)的深紫外(DUV)光电探测器芯片,采用工业级 3535(3.5 mm × 3.5 mm)SMD 贴片封装。产品专为 200–280 nm「日盲」紫外波段的高灵敏度、高选择性探测而设计,尤其适用于以 254 nm 紫外吸收光谱法检测 COD、TOC、余氯的水质传感器前端。


相较于传统 GaN、SiC 基紫外探测器,Ga₂O₃ 凭借其约 4.9 eV 的超宽禁带、本征日盲特性与高吸收系数,在 254 nm 附近实现更高响应度,同时对 300 nm 以上可见光及近紫外光具有天然强抑制,无需外加滤光片即可有效规避环境杂散光干扰,显著提升水质检测信噪比与长期工作稳定性。


核心定位


•单材料聚焦:全系仅采用 Ga₂O₃(氧化镓)芯片,专注日盲深紫外探测,不做 GaN/SiC 多材料混线。

•标准 3535 封装:3.5 mm × 3.5 mm SMD 贴片,兼容主流表贴产线,便于多参数水质传感器高密度集成。

•水质监测优化:主探 254 nm,配套 UV-LED 恒流驱动 + 跨阻放大 AFE,输出可被 MCU(如 GD32E230)直接采集的电压信号。


二、核心特性


  • 日盲高选择性:本征禁带 ≈ 4.9 eV,只对 ≤ 254 nm 深紫外响应,天然屏蔽 300 nm+ 日光 / 可见光。
  • 高响应度:254 nm 附近响应度显著优于同波段 GaN/SiC,峰值响应度可达 0.8 A/W 量级(实测样品)。
  • 强可见光抑制:550 nm 可见光光电流仅约 0.08 nA,深紫外 / 可见光抑制比优异,抗环境光干扰能力强。
  • 无需外接滤光片:宽带隙日盲特性省去外置日盲滤光片,简化光学结构、降低系统 BOM 与装配成本。
  • 高稳定耐候:Ga₂O₃ 材料耐辐照、耐高温,适合户外 / 水体长期在线连续运行。
  • SMD 易集成:3535 标准贴片封装,支持自动贴装,便于与 AFE、MCU 组成一体化探测模组。


三、氧化镓(Ga₂O₃)对比碳化硅(SiC)与氮化镓(GaN)的优势


本产品聚焦 Ga₂O₃ 单一材料路线。下图基于实测光谱响应数据(GS-ABC-2835M、SS-ABC-3535MI 为 SiC 样品,Ga₂O₃ 封装产品为本次主芯片),将三种材料在深紫外波段的响应特性进行直观对比。


图1 / 图2  光谱响应度对比(线性尺度 & 对数尺度)

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图1(线性尺度):Ga₂O₃(绿)在 230–240 nm 附近出现约 0.8 A/W 的尖锐响应峰,随后快速衰减;GaN(蓝)、SiC(红)在中长紫外段有较宽响应但峰值明显偏低。


图2(对数尺度):在 325–375 nm 区间,GaN/SiC 响应度仍维持在较高水平,而 Ga₂O₃ 已下降至 10⁻³ A/W 以下,即 Ga₂O₃ 对 300 nm+ 的抑制比 GaN/SiC 高出 > 10²–10³ 倍,日盲选择性优势显著。


关键优势解读

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图3  Ga₂O₃ vs GaN/SiC 综合优势对比(评分 0–10):Ga₂O₃ 在日盲选择性、可见光抑制、宽带隙(无需滤光片)、吸收系数等维度评分领先,仅在工艺兼容性上略低于已成熟的 SiC/GaN 平台。


结论:对于以 254 nm 紫外吸收为核心的水质 COD/TOC/余氯检测场景,Ga₂O₃ 是比 GaN、SiC 更优的探测材料——更高的 254 nm 响应带来更强检测信号,天然的日盲选择性省去滤光片、降低系统成本与复杂度,优异的可见光抑制则直接转化为更高的现场测量信噪比与稳定性。


四、技术原理


YS-DUV-3535-GO 基于半导体光电导 / 光伏效应工作:当 254 nm 深紫外光子入射到 Ga₂O₃ 层时,能量大于材料禁带(≈ 4.9 eV)的光子被吸收并产生电子-空穴对,在内建电场或外加偏置作用下形成可测光电流。光电流大小与入射深紫外光功率呈正相关,经跨阻放大器转换为电压信号后,由 MCU 采集并计算吸光度,最终依据朗伯-比尔定律(A₂₅₄ = −log(I/I₀))反演水样中 COD/TOC/余氯浓度。


本产品技术路线与梅增霞教授(中国科学院东莞材料科学与技术研究所)关于「第四代半导体深紫外传感器」的公开研究成果一致,充分印证 Ga₂O₃ 在日盲深紫外探测领域的材料优势与产业化前景。


五、主要性能指标(典型值)

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注:以上为样品实测典型值,具体以出厂测试报告及批次规格书为准;正式订货以 YS-DUV-3535-GO 型号规格书为准。


六、实测性能曲线

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图4  Ga₂O₃ 探测器波长-电流响应(样品 SMD_A1,12 V)


〔图4 曲线图片未随文档提供,此处保留图位;正式排版时请插入「Ga₂O₃ 探测器波长-电流响应曲线(样品 SMD_A1,12 V)」图。〕

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图5  Ga₂O₃ 探测器光功率密度-电流关系(样品 SMD_C3,12 V)


图5:光电流随入射光功率密度单调变化,支持微弱深紫外光信号的线性 / 半线性采集,适配恒流 UV-LED 分光光度检测。



七、典型应用


•水质在线监测:COD、TOC、余氯的 254 nm 紫外吸收光谱法检测(多参数水质传感器核心前端)。

•饮用水安全:市政 / 村镇 / 二次供水末梢水紫外吸收快速筛查。

•日盲紫外探测:火焰 / 电弧 / 电晕放电的日盲紫外告警与定位。

•UV 辐照计量:深紫外 LED / 汞灯光源 254 nm 辐照度监测。

•科学仪器:紫外分光光度计、吸光度检测模块的光电探测单元。



八、在多参数水质传感器中的集成方案


推荐将 YS-DUV-3535-GO 作为 254 nm 主探测通道,配合 254 nm UV-LED 恒流驱动、LMV321 等运放构成的跨阻放大 AFE,以及 GD32E230 等主控 MCU 组成一体化探测模组。固件采用分时采样(UV254_LED_ON)+ 去极值平均算法,将 nA 级光电流稳定转换为可采集的电压信号并计算吸光度 A₂₅₄,最终输出 COD/TOC/余氯浓度。


•主通道:YS-DUV-3535-GO(Ga₂O₃)→ 254 nm 深紫外吸收检测。

•AFE:高精度跨阻放大器(TIA),nA 电流 → mV/V 电压。

•MCU:GD32E230 等,12 bit ADC 采集 + 分时采样 + 去极值平均。

•标定验证:完成标定与比对测试。



九、订购信息与资料下载


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十、免责声明


本文档所载性能指标基于样品实测数据及公开研究成果整理,典型值仅供选型参考,不作为质量保证承诺;具体参数以正式规格书、出厂测试报告及双方签订的订货合同为准。文中 GaN/SiC 样品数据仅用于材料对比说明,不构成对任何第三方产品的评价或担保。本产品说明最终解释权归本公司所有。

技术参数
商品型号 YS-DUV-3535-GO
商品目录 其他IC
探测材料 β-Ga₂O₃(氧化镓)单晶 / 薄膜
封装形式 3535 SMD(3.5 mm × 3.5 mm 贴片)
光谱响应范围 200–280 nm(日盲段)
峰值响应波长(12 V 偏置) ≈ 235–260 nm
峰值响应度(≈ 240 nm) 约 0.8 A/W(样品实测)
深紫外光电流(260 nm,12 V) 约 3.92 nA(峰值点)
550 nm 可见光电流(12 V(强抑制)) 约 0.081 nA
日盲特性(见图2 对数谱) 300 nm+ 响应较 254 nm 下降 > 10²–10³
工艺兼容(3535 焊盘) SMD 表贴,兼容主流贴装产线